用途：本设备是我公司研发用于真空蒸发镀光学薄膜、有机物薄膜和金属薄膜

用途：本设备是我公司研发用于真空蒸发镀光学薄膜、有机物薄膜和金属薄膜

反应离子腐蚀技术是一种各向异性很强、选择性高的干法腐蚀技术

概述磁控溅射是利用磁场束缚电子的运动（即磁控管模式），其结果导至轰击基片的高能电子的减少和轰击靶材的高能离子的增多，使其具备了低温、高速两大特点

一设备技术要求：可以用于蒸镀半导体、金属膜，纳米级单层及多层功能膜

概述磁控溅射是利用磁场束缚电子的运动（即磁控管模式），其结果导至轰击基片的高能电子的减少和轰击靶材的高能离子的增多，使其具备了低温、高速两大特点

概述：等离子体清洗机由真空腔体及等离子电源、抽真空系统、充气系统、控制系统等部分组成

实验级蒸镀机EV200

实验级蒸镀机EV400A

材料整体验证机LD-1

概述磁控溅射是利用磁场束缚电子的运动（即磁控管模式），其结果导至轰击基片的高能电子的减少和轰击靶材的高能离子的增多，使其具备了低温、高速两大特点